Проблемы ионной имплантации в кристаллические мишени :: НПК ВИЭРТ

Проблемы ионной имплантации в кристаллические мишени


Разработана серия феноменологических моделей теоретического описания имплантации ионов в кристаллы, корректно учитывающих кинетику каналирования ионов и влияние радиационных повреждений мишени имплантируемым пучком на профили внедрения.

	Модели хорошо описывают профили внедрения при различных условиях имплантации и верифицированы на большом массиве экспериментальных данных и данных математического моделирования (рис. 1-3);

	Рис. 1 - Энергетические зависимости профилей внедрения

	Рис. 2 - Дозовые зависимости профилей внедрения

	Рис. 3 - Ориентационные зависимости профилей внедрения

	Применимы для оптимизации промышленных имплантационных технологий в микро- и наноэлектронике, а также в имитационных исследованиях ФРПиРМ на ускорителях тяжелых ионов;

	Открывают уникальные возможности экспериментального измерения фундаментальных параметров, характеризующих кинетику ориентационных эффектов (например, длин деканалирования ионов низких и средних энергий) (рис. 4).

	Рис. 4 - Ориентационная зависимость длины деканалирования